Tapahtumat

Väitös puolijohdeteknologian alalta, DI Zhen Zhu

Väitöksen nimi on “Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Silicon Dioxide and Aluminum Oxide”

Vastaväittäjänä toimii Professori Henrik Pedersen, Linköpingin yliopistosta Ruotsista

Valvojana on professori Hele Savin, Aalto-yliopiston sähkötekniikan korkeakoulu, elektroniikan ja nanotekniikan laitos.

Väitöskirja on julkisesti nähtävillä 10 päivää ennen väitöstä Aalto-yliopiston sähkötekniikan korkeakoulun ilmoitustaululla ala-aulassa Maarintie 8, Espoo.

  • Julkaistu:
  • Päivitetty:
Jaa
URL kopioitu