Väitös elektroniikan integraation ja luotettavuuden alalta, M.Sc. Ishan Pande
Väitös Aalto-yliopiston sähkötekniikan korkeakoulusta, sähkötekniikan ja automaation laitokselta
Milloin
–
Missä
Sali E
Tapahtuman kieli
englanti
Väitöskirjan nimi: Plasma-enhanced chemical vapor deposition of carbon nanofibers: Correlations between process parameters and physicochemical properties
Tohtoriopiskelija: Ishan Pande
Vastaväittäjä: Prof. Thomas Wågberg, Umeå University, Sweden
Kustos: Prof. Tomi Laurila, Aalto-yliopiston sähkötekniikan korkeakoulu, sähkötekniikan ja automaation laitos
Linkki väitöskirjan sähköiseen esittelykappaleeseen (esillä 10 päivää ennen väitöstä): https://aaltodoc.aalto.fi/doc_public/eonly/riiputus/
Yhteystiedot:
| ishan.pande@aalto.fi |
Sähkötekniikan korkeakoulun väitöskirjat: https://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/53