Atomikontrolloitu materiaalitekniikka
Atomikerroskasvatus (atomic layer deposition, ALD) on ominaisuuksiinsa nojaten pintojen ja rajapintojen muokkaamiseen kaikkein tehokkain ohutkalvojen kasvatustekniikka. Siksi myös energiamateriaalien tärkeimpien ominaisuuksien hallinnassa ALD on kiistatta monipuolisin menetelmä. Koska ALD voidaan skaalata isoillekin materiaali- ja näyte-erille, se sopii erinomaisesti elektrodipulvereiden tai -levyjen käsittelyyn. Toisaalta ALD mahdollistaa materiaalien ja niiden ominaisuuksien tarkan hallinnan nanoskaalassa, mikä on ensiarvoisen tärkeää energiamuuntimissa, mikroakuissa ja fotoelektrokatalyyteissä.
Tutkimuksemme fokusalueet
Korkean suorituskyvyn akkujen kestävät katodimateriaalit
Kehitämme uusia koboltittomia mangaanioksidiperustaisia katodimateriaaleja litium- ja natriumioniakkuihin hyödyntäen hydrotermisiä ja kaasufaasista kiinteään-menetelmiä.
3D-mikroakkujen lisäävä valmistus
Kehitämme alhaalta-ylös-memetelmiä, erityisesti Photo-ALD:tä, mikroakkujen materiaalikerrosten suorakirjoitusta varten.
Tarkkuusräätälöidyt katalyytit hiilidioksidin pelkitykseen ja veden hajotukseen
Kehitämme koostumukseltaan ja rakenteeltaan tarkasti hallittuja katalyyttimateriaaleja CO2:n pelkistysreaktioon ja H2O:n hajotusreaktioon uudentyyppisillä ALD- ja Photo-ALD-prosesseilla.
Viimeisimmät julkaisut
High Voltage Cycling Stability of LiF-Coated NMC811 Electrode
Olennaisimmat aiemmat julkaisut
Highly Material Selective and Self-Aligned Photo-assisted Atomic Layer Deposition of Copper on Oxide Materials
Atomic Layer Deposition of Spinel Lithium Manganese Oxide by Film-Body-Controlled Lithium Incorporation for Thin-Film Lithium-Ion Batteries
Atomic layer deposition of AlN using atomic layer annealing—Towards high-quality AlN on vertical sidewalls
- Julkaistu:
- Päivitetty: